Máy Quang Phổ Phát Xạ ICP – Giải Pháp Phân Tích Nguyên Tố Kim Loại Chính Xác
Xuất xứ: G7
Ứng dụng: Phân tích hàm lượng vết các nguyên tố kim loại (Cu, Pb, Ni, Cd, Cr, Mn, Al, Zn, Sn, Hg, As, Se, Bi, Sb, K, Na…) trong nhiều lĩnh vực như môi trường, dược phẩm, thực phẩm, khai khoáng, nhiên liệu sinh học… Ngoài ra, máy còn có khả năng phân tích nhóm Halogen (Cl, Br…) với độ chính xác cao.
Đặc điểm nổi bật:
✅ Công nghệ Dual-View Plasma: Hỗ trợ hai chế độ dọc trục và xuyên tâm, giúp mở rộng dải phân tích và nâng cao hiệu suất đo.
✅ Dải bước sóng rộng: Chuẩn từ 165 – 1.100 nm, có thể mở rộng đến 135 – 1.100 nm cho phân tích Halogen.
✅ Hệ quang Echelle hiệu năng cao: Tiêu cự 800 mm, giảm thiểu ánh sáng lạc, nâng cao độ phân giải.
✅ Bơm nhu động 4 kênh: Hỗ trợ lấy mẫu chính xác, tự động pha loãng và giảm thiểu dao động dòng chảy.
✅ Hệ thống kiểm soát khí tự động: Điều khiển khí plasma bằng phần mềm giúp tối ưu hóa hiệu suất hoạt động.
✅ Thiết kế an toàn: Chống phát xạ RF & UV, đạt tiêu chuẩn FCC.
Ưu điểm của máy ICP:
🔹 Phân tích nhanh chóng, chính xác, phù hợp với nhiều ứng dụng.
🔹 Khả năng nâng cấp linh hoạt với bộ phân tích Halogen, Hydrid, hóa hơi lạnh Hg.
🔹 Tiết kiệm khí và điện năng nhờ thiết kế hệ thống khởi động nhanh.
🔹 Vận hành dễ dàng, không yêu cầu cao về kỹ thuật nhờ khóa Twist-n-Lock và phần mềm điều khiển trực quan.
Máy quang phổ phát xạ ICP là lựa chọn lý tưởng cho các phòng thí nghiệm, nhà máy và trung tâm nghiên cứu cần độ chính xác cao trong phân tích nguyên tố kim loại và Halogen.
📌 Liên hệ ngay để được tư vấn chi tiết!
